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小到100平方毫米，大到4万多平方毫米。65纳米光刻机能够制造芯片的大小和制程关系不大，和芯片设计用途关系比较大。理论上65纳米光刻机最大制作面积就是硅晶圆的内切正方形，比如amd的线程撕裂者就有4万多平方毫米，而普通芯片面积也就100平方...
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阿斯麦公司正在研发的新一代光刻机能够制造3纳米制程的芯片。这项技术被称为高数值孔径（High-NA）光刻，能够在晶圆上产生更小的特征尺寸，从而提高芯片的性能和效率。该公司计划在2023年推出3纳米EUV光刻机，并于2025年推出2纳米EUV...
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大概300纳米。目前越南的芯片产业链上游有芯片设计，中游有晶圆制造、相关生产制程检测设备、光罩、化学品等，下游有封装测试、相关生产制程检测设备等。在越南上游活动薄弱，设计在海外进行，芯片从其他国家进口，主要从事整机组装和零件组出口。所以越南...
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国产光刻机可以生产国产芯片，我们的芯片被外国卡脖子，我们自己能生产就不会受制于人，台积电使用的光刻机比较先进，能生产五纳米以下的芯片，我们自己掌握了22纳米的光刻机，可以生产对体积要求没有那么敏感的芯片，比如说汽车上的芯片，大型设备上的芯片...
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28纳米光刻机可以制造多少纳米产生分析如下。28纳米光刻机理论上来讲，通过再次曝光，可以生产14纳米的产品，通过两次曝光可以得到7纳米产生。但理论归理论，现实归现实，由于精度问题，多次曝光的良品率是非常低的，良品率低就意味着价格彪高，产品没...
