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能生产7nm的芯片。22nm光刻机最高能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。像...
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1980di和1950di光刻机的主要区别在于它们的分辨率和适用范围。1980di光刻机可以实现的分辨率大于等于38nm，数值孔径为1.35NA，每小时可以生产275片晶圆。这种光刻机主要用于制造14nm及更高级别的芯片。而1950di光刻...
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28纳米（nm）光刻机可以生产7纳米（nm）芯片的原因是，28nm光刻机具有足够的分辨率和精度来制造更小的芯片。光刻机是半导体制造过程中的重要设备，用于将芯片设计图案投射到硅片上，形成芯片的图案结构。光刻机的分辨率和精度决定了芯片的制造能力...
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国产光刻机精度只有90nm。作为制造强国，我国许多行业对于90nm及以下制程的芯片，有着广泛的需求。电视机、智能家电、功能手机、智能机械设备等，都需要用到精度不高芯片。这些行业的巨量需求，要求国产90nm光刻机，必须存在。唯有这样，才能更好...
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可以生产10nm芯片。28nm光刻机可以生产10nm芯片。在没有euv光刻机的年代，台积电利用28nm光刻机就已经能够生产7nm芯片了，所以生产10nm完全没问题。其原理大致是通过对晶圆多次曝光多次蚀刻达到更高制程。国内比如中芯国际现在也可...
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90纳米芯片是2005年由英特尔公司制造而出现的。2005年5月26日：英特尔奔腾D处理器，诞生于使用英特尔领先的90nm工艺技术生产的2亿2999万9999个晶体管。2006年7月27日：英特尔酷睿2双核处理器诞生了。超过2.9亿个晶体管...
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能生产90nm芯片，45nm芯片，22nm芯片，但主要是28nm芯片。很多人以为90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片，只有14nm的光刻机才能生产14nm制程的芯片，其实这是个误解，就像照相机底片一样，经过多次曝光可以叠加出更清晰的照...
