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目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。 中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产...
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不是。中芯国际基本上用的是荷兰阿斯麦尔公司的duv光刻机，国产光刻机可能也有比如上海微电子，但是90nm低端制程的光刻机很难做到14nm制程。要是想达到14nm芯片量产可能要用到28nm中端光刻机，目前能批量生产中端光刻机的就是荷兰阿斯麦尔...
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可以制作的芯片精细程度不同。激光光源决定了波长，波长会影响线宽，因此现在7nm的制作基本依赖于多重曝光，但是90nm基本上不需要，可以采用更长波长的光源多重曝光，也可以用EUV再进行浸润式光刻。因为制程差距太大，所以在精度上的需求也相差很多...
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光刻厂可以实现的纳米级别取决于其设备和技术水平。目前，先进的光刻技术可以实现亚纳米级别的精度，例如7纳米、5纳米和3纳米。然而，随着技术的不断发展，光刻厂有望实现更小的纳米级别，如2纳米或更低。这需要更高级的设备和先进的光刻技术，以满足不断...
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关于这个12nm工艺，应该是中芯国际在上海的子公司中芯南方的工艺。去年12月，中芯国际就表示，已经实现12nm工艺小批量试产，相比14纳米工艺，晶体管尺寸有所缩减，功耗降低20%、错误率降低20%，总体性能提升10%。所以说，这个12纳米量...
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差距比较远，光源相差一代。90nm光刻机距离7nm还比较远，至少在光源技术上低了一代。9nm光刻机采用的是深紫外光光源，大致是激光轰击汞灯产生193nm的光源，再通过纯化水介质及镜头组技术压缩到90nm。而所谓7nm实际上是13.5nm极紫...
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目前国内半导体产业还没有完全实现22nm级别的芯片制造，因此国产光刻机是否能够真正突破22nm级别的制造仍存在争议。然而，国内半导体设备制造商正在积极开展相关技术研究和产品开发，例如中微半导体、北方华创等公司都在光刻机领域进行了一系列技术创...
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5纳米。28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。理论上可以经过几次曝光后能造7nm芯片...
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来源是荷兰阿斯麦尔公司的光刻机。中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司。准确点说并不是14纳米，而是28纳米光刻机，14纳米是中芯国际的量产芯片制程，而不是光刻机的精度。作为duv光刻机最高也就是28/22纳米精度。荷兰阿斯麦尔光刻...
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14nm芯片量产用的是荷兰阿斯麦公司的光刻机。现在国产的14nm芯片，使用的就是荷兰阿斯麦公司生产的DUV光刻机。去年的时候中芯国际公司，向荷兰阿斯迈公司订购了十台的DUV光刻机，现在已经全部到货。14nm芯片都是荷兰阿斯麦公司，生产的光刻...
