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1、中国汽车产业可以等待本土芯片供应链的成熟，其过程不会影响产业升级的步伐。 文/《汽车人》孟华 1月27日，“美日荷”三国在华盛顿达成协议，扩大对华芯片出口管制范围。
2、这一次动静比较大，原因可能有两个：其一，管制的是业内关注比较多的芯片制造，这是当前中美博弈的一个重点环节；其二，日本此举系落实今年1月27日“美日荷”三国在华盛顿达成的”对华出口限制“共识。
3、月23日，日本在3个多月前宣布的23项芯片制造设备出口管制政策，开始生效。而中国对镓锗的管制条例，也将在8月1日生效。全球半导体分工体系，正在碎片化。
4、时任日本兴业银行董事兼调查部长小林实建议：“日本战后是把汽车作为一个重要出口产业加以扶植的。今后中国也应当把汽车产业作为一个重要出口产业大力加以发展。
5、文/《汽车人》麦可 这次，商用车大佬当上了会长，也许意味着日本汽车业走上了转型之路。
6、这些都会反映在日本企业的股价上，尤其是那些依赖出口的制造业企业，如汽车、电子、机械等。 其二，吸引外资流入日本股市。日元贬值降低了外国投资者持有日本股票的成本，也增加了日本股票的收益预期。
1、如果将芯片制程工艺比作金字塔，塔尖是10nm及以上工艺，14nm及90nm就是塔腰，90nm以下就是塔基。说到这里，国产90nm光刻机的战略意义就展现出来了。
2、nm国产光刻机的存在，最起码可用保证我们有芯片可用，不至于全军覆没。要知道，我们很多军用的芯片，都靠90nm及以下精度的光刻机生产。
3、前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的。
4、目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西。
1、在1985年之前，第一代光刻机光源以436nm的g-line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程；之后出现了365nm的i-line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350-500nm。
2、光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
3、光刻机。光刻机是制造芯片的机器，其精度决定了芯片的上限。中国生产的最好的光刻机，加工精度是12纳米。截止到2023年4月25日，荷兰已经做到7纳米，技术很难突破，被国外卡脖子。
1、光刻机是生产手机芯片的重要机器之一。目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度光刻机80%以上的市场份额。
2、光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。
3、根据网上资料显示，一台光刻机一天大约可以有效制造600块左右，一年就可以制造差不多29万块芯片。光刻机为什么会如此的重要？目前，无论是手机芯片、汽车芯片还是其他领域，包括军事、航空航天等应用，芯片都离不开光刻。
4、一台光刻机的产量有限，它能够制造的芯片数量相对较少。光刻机的主要功能是在硅片上精确地刻画微小的电路图案。在智能手机和其他电子设备的制造过程中，光刻机是生产芯片的关键设备之一。
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