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某些场景会直接用裸芯片,比如COB,或者RF微波高速芯片等等情况。一般芯片的最外边有一层um级别厚度的钝化层进行保护芯片里面的电路,只留下电Pad作为接口。硅晶片之所以脆弱,在于几个方面。1.需要超净环境。芯片上落下PM2.5或者PM10及以上的脏污会影响性能和可靠性。2.操纵时小心,镊子尖端很容易划破钝化层对里面的电路连接或者元件造成毁坏,脏污的吸嘴不小心...

集成电路为什么可以刻在硅片上?

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某些场景会直接用裸芯片,比如COB,或者RF微波高速芯片等等情况。一般芯片的最外边有一层um级别厚度的钝化层进行保护芯片里面的电路,只留下电Pad作为接口。硅晶片之所以脆弱,在于几个方面。

1.需要超净环境。芯片上落下PM2.5或者PM10及以上的脏污会影响性能和可靠性。

2.操纵时小心,镊子尖端很容易划破钝化层对里面的电路连接或者元件造成毁坏,脏污的吸嘴不小心一压就坏了上万个晶体管。

3.ESD,由于IC晶体管的寄生电容很小,尤其是高速电路接口,静电的释放在小电容上会造成很大电压,直接损坏接口。

4.芯片的厚度一般都比较薄(如典型的0.15mm),可以想象其机械强度是比较弱的。

5.其它引起芯片失效或毁坏的因素。最后,打一个比方,一个人在蚂蚁窝上撒了一泡尿,对于人来说只是一泡尿,而对于蚂蚁来说是一场洪水。何况集成电话里面的元器件和走线又比蚂蚁小太多太多…这样说就应该清楚了。酱紫了

集成电路基本单元为半导体电阻,二极管,三极管组成。制作这些元器件,是根据计算机设计出的版图,在硅片上注入正离子或负离子。

方法是在硅片涂满一层保护膜,让后通过光刻方式将需注入离子部分的保护膜去掉,然后像硅片注入离子,无保护膜部分被注入离子,形成P结(沟)或N结(沟),然后类似的方法制作其他布分。

集成电路的导线,一般是电路连接的最后一道工序。

同样用光刻,将需要布线的不部分裸漏出来,然后给硅片蒸铝,去掉保护膜后,原来裸漏布分被直接到硅片上的铝保留下来,形成导线。

或者像PCB制作,先大面积蒸铝,然后涂保护膜,光刻,然后将不需要的部分票洗掉,形成导线。

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