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1.材料制备:首先需要选择合适的半导体材料,如硅、锗等,并将其制成片状或丝状。通常使用高纯度的硅或锗作为原料,通过气相沉积、溅射等方式将其制成单晶薄膜。
2.掩膜制作:在晶圆上涂上一层光刻胶,然后通过UV曝光和化学腐蚀来形成模板。模板决定了芯片的电路图案和结构。
3.接触制造:将晶圆暴露在一系列光线下,利用光刻胶的化学变化在晶圆上形成所需的微小结构