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最高能做7纳米芯片。
28纳米光刻机最高能做到7纳米芯片，28纳米光刻机实际就是duv光刻机，duv光刻机的光源是193纳米波长的，通过水的折射降低到134纳米，然后通过提高分辨率达到28纳米。目前台积电和三星能28纳米光刻机做到7纳米制程，我国的中芯国际可以做到14纳米量产，最高制程能做到接近7纳米，但目前还在提高良品率。
28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距，除了一些手机，pc高端芯片做不了，一些通用类的还是可以满足，从理论上来说28nm光刻机能做到7nm，但实际上是难以做到把性能都发挥的淋漓尽致。
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