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荷兰的光刻机最小的刻线尺寸是几十纳米到几百纳米之间。光刻机是半导体制造过程中的关键设备，主要用于将芯片设计上的图案转移到硅片上。荷兰拥有先进的半导体技术和制造能力，其光刻机涵盖了多个厂商和型号，能够实现不同尺寸的刻线。
通常情况下，光刻机的最小刻线尺寸取决于所使用的光刻胶和光刻机的分辨率。随着技术的进步，荷兰的光刻机的最小刻线尺寸还将不断提升。
5nm以下。
世界光刻机，目前根据不同工艺，可以分别做到 14 nm 和 5nm以下。 目前最高端的EUⅤ光刻机波长13.5nm,曝光精度14nm,釆用平面工艺,也就是14nm,釆用finfet工艺可达5nm以下。
荷兰的光刻机最小是4纳米。
euv光刻机是荷兰阿斯麦尔公司生产的全球唯一高端光刻机，其生产的设备绝大多数被台积电和三星购得，英特尔有少量几台
是3纳米
首先要说光刻机不能以大小区分，而是要以制程和光源波长等类型区分。目前全球最高端光刻机，也就是光刻机制程最小的，是荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5纳米极紫外光光源光刻机。该光刻机目前可以制商业化量产造达到4纳米工艺制程的芯片，3纳米芯片也已经流片。
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