扫码或点击进入无线充模块店铺
Twinscan XT:200L光刻机的分辨率是**193纳米**,可以制作10纳米到7纳米的制程。因此，Twinscan XT:200L光刻机可以用于制造7纳米芯片。
其制程工艺为28纳米,对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机:TWINSCAN NXT:2000i
