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阿斯麦2000i光刻机是一款高端的半导体光刻机，其分辨率可达到20纳米，是目前市场上最先进的光刻技术之一。该光刻机采用了先进的光刻技术和多层掩膜设计，能够精确地制造出各种微小元件和电路结构。其主要应用领域为半导体芯片制造和微电子器件制造等高精度领域。总的来说，阿斯麦2000i光刻机的分辨率高达20纳米，非常适合需要高精度加工的应用场景。
7nm的光刻机
2000i光刻机的分辨率是**193纳米**,可以制作10纳米到7纳米的制程。因此，2000i光刻机可以用于制造7纳米芯片。
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