扫码或点击进入无线充模块店铺
三维纳米直写光刻机是一种用于制造微纳结构的高精度设备，是制造微型器件和系统的关键设备之一。通过使用三维纳米直写光刻机，可以制造出更小、更复杂、更精密的微纳结构，为未来的科技发展提供有力支持。
在芯片光掩模版制备方面，直写光刻机可用于0.25微米及以上节点的芯片光掩模版制备，以及0.18微米节点以下的部分光掩模制备。在显示面板行业，直写光刻机可以将光掩模图形扫描光刻到大尺寸基板上，形成 TFT电路图形。
三维纳米直写光刻机主要用于制造微纳结构，如纳米光子器件、微光学器件、微型机械、微型光机电系统(MOEMS)以及生物医学等领域。它基于多光子聚合（mPP）技术，可以加工和生产纳米精度和分辨率的三维结构，实现高精度无掩膜光刻的制造和其他纳米级3D器件的激光直写光刻。这种设备将整个加工过程整合在一起，包括3D模型的创建和制备、激光直写以及后期处理。
扫码或点击进入无线充模块店铺