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士兰微的光刻机是最先进的半导体制造设备之一，其最新款的光刻机可以实现7纳米级别的制程。光刻机是半导体制造过程中非常关键的设备，它通过使用光学技术将芯片上的图案投射到硅片上，从而实现微小的芯片结构。随着技术的不断进步，士兰微的光刻机能够实现更高的分辨率和更小的制程，为半导体行业的发展提供了强大的支持。
士兰微可生产28nm以上成熟制程，士兰微是大陆最先进的IDM芯片企业，有最先进的8寸和12寸晶圆产线！
掌握核心技术，建成工艺线宽65纳米至90纳米特色工艺芯片生产线。2.士兰微电子SGTQ160U65SDM1PW产品方案成为电动汽车电控系统的主流方案，世界领先。3.600V/160A大功率芯片，突破世界封锁，是电动汽车充电桩核心原件。
士兰微的EUV光刻机可以实现7纳米及以下的制程技术。士兰微（ASML）是一家荷兰的半导体设备制造公司，主要生产光刻机。然而，具体的光刻机的纳米级别是根据不同型号和技术而有所不同的。目前，士兰微的最新一代光刻机是EUV（极紫外）光刻机，可以实现更小的纳米级别。
14纳米
成立于1997年的士兰微，发展到今年，已经是第22个年头。由最初的芯片设计起家，经过慢慢摸索发展至今拥有芯片设计、制造、封装与测试完整的产业链，是目前国内为数不多的以IDM模式（设计与制造一体化）为主要发展模式的综合性半导体产品公司
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