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duv光刻机理论上是可以生产22纳米以上制程的芯片。光刻机目前主流有两类，一种是euv光刻机，生产14纳米以下高端芯片。另一类是中端duv光刻机，采用193纳米深紫外线光源，其最高制程是22纳米，但通过多重曝光可以生产14纳米芯片，甚至可以生产接近7纳米的芯片，但良品率非常低。duv光刻机虽然是中低端光刻机，但目前全球绝大部分芯片都是duv光刻机制造的
