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28纳米光刻机可以制造多少纳米产生分析如下。
28纳米光刻机理论上来讲，通过再次曝光，可以生产14纳米的产品，通过两次曝光可以得到7纳米产生。但理论归理论，现实归现实，由于精度问题，多次曝光的良品率是非常低的，良品率低就意味着价格彪高，产品没有市场竞争力，所以在再次曝光技术成熟条件下提高良品率，使28纳米光刻机能制造良品率比较高的14纳米芯片是个不错的选择，再低就很难了。
