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已完全国产。
经过快20年的攻关，光刻机的集成技术已经完成从0到1，取得了许多重大的突破。
国产90nm光刻机早已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了，沉浸式65nm、45nm和28nm的DUV光刻机国产化是迟早的事。而最先进的EUV光刻机（7nm以下）还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。
