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90纳米光刻机是能生产14纳米芯片。90纳米的光刻机可以用多重曝光的方法,来制造14纳米的芯片。不过多重曝光,就会让芯片的制造成本增加,而且还会让芯片的良品率下降。90纳米的光刻机制造,14纳米的芯片,除了他们更高之外,还有技术工艺也会比较复杂。不能,实际上90纳米精度的光刻机它的波长并不是90纳米,而是比90纳米大很多。目前市场上的光刻机分为两大类,一类是...

90纳米光刻机能生产14纳米芯片吗?

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90纳米光刻机是能生产14纳米芯片。

90纳米的光刻机可以用多重曝光的方法,来制造14纳米的芯片。

不过多重曝光,就会让芯片的制造成本增加,而且还会让芯片的良品率下降。

90纳米的光刻机制造,14纳米的芯片,除了他们更高之外,还有技术工艺也会比较复杂。

不能,实际上90纳米精度的光刻机它的波长并不是90纳米,而是比90纳米大很多。目前市场上的光刻机分为两大类,一类是EUV光刻机,还有一种是DUV光刻机,其中EUV光刻机只有荷兰的ASML掌握了技术,其他国家并没有掌握。

不可能

首先可以肯定地告诉大家答案,不可能。

可能有些朋友会说,用90纳米光刻机经过工艺上的改进以及多次曝光之后生产14纳米的芯片没有问题,但这只是理论上的理想值,现实当中并不可行。

可以,但主要是28nm芯片。

很多人以为90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片,只有14nm的光刻机才能生产14nm制程的芯片,其实这是个误解,就像照相机底片一样,经过多次曝光可以叠加出更清晰的照片。

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