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90纳米光刻机是能生产14纳米芯片。
90纳米的光刻机可以用多重曝光的方法，来制造14纳米的芯片。
不过多重曝光，就会让芯片的制造成本增加，而且还会让芯片的良品率下降。
90纳米的光刻机制造，14纳米的芯片，除了他们更高之外，还有技术工艺也会比较复杂。
不能，实际上90纳米精度的光刻机它的波长并不是90纳米，而是比90纳米大很多。目前市场上的光刻机分为两大类，一类是EUV光刻机，还有一种是DUV光刻机，其中EUV光刻机只有荷兰的ASML掌握了技术，其他国家并没有掌握。
不可能
首先可以肯定地告诉大家答案，不可能。
可能有些朋友会说，用90纳米光刻机经过工艺上的改进以及多次曝光之后生产14纳米的芯片没有问题，但这只是理论上的理想值，现实当中并不可行。
可以，但主要是28nm芯片。
很多人以为90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片，只有14nm的光刻机才能生产14nm制程的芯片，其实这是个误解，就像照相机底片一样，经过多次曝光可以叠加出更清晰的照片。
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