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7纳米光刻机可以生产5纳米芯片。
目前高端光刻机能制作7纳米工艺制程芯片的只有荷兰阿斯麦尔一家能生产，既EUV光刻机。EUV光刻机目前最小制程已经可以达到3纳米，台积电和三星都有技术并像台积电3纳米芯片已经接了英特尔的订单，目前正在提高良品率。作为上一代的193纳米光源的DUV光刻机可以通过技术手段，比如重复曝光法，能加工到等同于10纳米精度。
7nm光刻机也是可以生产5nm芯片的，光刻机其实不是按照某一个制程宽度来区分的，严格意义上讲，它是在有一段范围内进行区分的。
14nm以下的芯片都需要用到极紫外光刻机，而只有荷兰的ASML可以量产这种光刻设备。其中，最新的NXE：3400B/C这两款机型都是可以同时生产7nm和5nm制程芯片的。
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