扫码或点击进入无线充模块店铺
光刻机没有01纳米制程，所以无法判断大小。
目前全球最高端光刻机为荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5纳米极紫外光光源光刻机，可以用于制造22纳米以下制程芯片，目前最高精度是3纳米，可量产最高精度是4纳米。光刻机本身13.5纳米光源波长是固定的，所以目前不可能有01或0.1纳米的光刻机，除非有波长更小的光源，但是除了X光外没有这个波长的光线，而X光目前无法制造光刻机。
