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0.1nm光刻机是目前无法实现的。
以目前最高端的euv光刻机来说，最小的极限就是趋近于1nm，这是物理极限。而0.1nm就是原子本身的物理尺寸。以现在的技术手段和硬件设备根本没法实现原子排序。从193nm水层浸润式光刻机到13.5nm锡滴技术光刻机，实际上是在物理结构走到了极限。要想实现0.1nm这种原子等级的集成电路，必须要有新一代技术及新材料才有可能，可惜目前还没有。
假设一根头发的直径是0.05毫米，把它轴向平均剖成5万根，每根的厚度大约就是1纳米。
也就是说，1纳米就是0.000001毫米，而1纳米是等于1000皮米。
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