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目前，0.1纳米光刻机还没有实际存在。光刻技术是一种用于制造集成电路的关键工艺，它使用光源和光掩模将图案投射到硅片上。随着技术的不断进步，光刻机的分辨率逐渐提高，但目前最先进的光刻机也只能达到几纳米的分辨率。要实现0.1纳米级别的光刻，需要克服许多技术难题，包括光源、光学系统和掩模制备等方面的挑战。因此，目前还没有可用的0.1纳米光刻机。
目前已经有纳米级光刻机存在。纳米级光刻机是一种高分辨率的光刻技术，可以实现小于100纳米的图案制作。
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