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2g纳米光刻机可以生产14-3纳米芯片。
光刻机没有2g这个品牌或规格，光刻机基本分为高中低端，中端光刻机可以生产45-22纳米的芯片，高端光刻机可以生产14纳米以下的芯片。中端光刻机和部分低端光刻机使用193纳米深紫外线光源，高端光刻机使用13.5纳米极紫外光光源。以高端光刻机来说，目前最小制程是今年发布的4纳米芯片，而能够流片但未量产的最小制程是3纳米。
