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中国3nm光刻机是假消息。
目前中国光刻机量产型为上海微电子的90nmduv浸润式光刻机，该公司28nmduv浸润式光刻机已经设计定型并处于实验状态，预计年内能达到量产状态。该机型通过n+1技术使芯片制程达到10nm精度。但要知道euv才是高端光刻机，duv只是中低端机型。euv光源为13.5nm的极紫外光，duv光源为193nm的深紫外光，两者有质的区别。
中国三纳米光刻机是真的吗？目前中国还制造不出来，制造三纳米的芯片的光刻机。我国能生产28纳米的芯片光刻机了，在中国境内，可能就台积电有三纳米的光刻机。新片这东西能制成三纳米的芯片，不是光有光刻机就行还得有支撑的人才。才能制造出三大米的芯片，我们生产出好的光刻机只是时间问题。一定能成功。
以目前的条件应该还很难做到吧，希望有一天能攻克难关，期待早一点研制成功
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