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这个消息目前应该是不真实的，目前我国的光刻机只能完成28nm芯片的量产，正在攻克14nm制程，而7nm及以下目前还完全打不到，更不要说3nm了。
我国的光刻机技术根据分析，和ASML最先进制程光刻机大概有10年的差距，因此，目前没有能力生产先进制程芯片，在目前加大投入的情况，乐观估计5年后能够实现7nm制程，这个还是有可能的。
国产3nm光刻机是假的，现在中国的科技实力还无法制造3nm的光刻机。现在世界上最顶尖的光刻机制造公司，荷兰的阿斯迈，也只能制造5nm的光刻机！
中国国内的最好的光刻机制造公司，是上海的微电子厂。但上海微电子厂最先进的光刻机也只是28nm的！
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