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日本铠侠公司及其合作伙伴成功开发出了一种可以不使用EUV光刻机，便能够制造出5nm制程芯片的工艺。
这是一种被称作NIL（纳米压印光刻）的新技术工艺，相较于极紫外光工艺，NIL新工艺无需使用EUV光刻机，也不需要使用镜头。
据说该项技术是日本的一家名为铠侠的公司与半导体厂商佳能合作、以及光罩、模板等半导体零组件商DNP合作而研发出的纳米压印光刻技术。目前已经掌握了15纳米量产技术，对于15纳米一下的工艺正在研究。
