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不能。
1，光刻机是半导体工艺中非常重要的设备，28nm芯片的制作需要比90nm更高的分辨率和更精密的加工工艺，而90nm光刻机的分辨率和加工工艺达不到28nm芯片的制作要求。2，目前，28nm芯片的制作需要的光刻机主要是40nm和28nm的光刻机，这些设备具备更高的分辨率、更精密的控制系统和更高效的加工工艺。
不能， 因为90nm光刻机的最小加工尺寸只有90纳米，而28nm芯片的线宽则是28纳米，所以90nm光刻机无法满足28nm芯片生产的要求。
如果要生产28nm芯片，需要使用最小加工尺寸为28纳米的光刻机或更先进的工艺设备来进行制造。
可以。
国产光刻机,3年前就达到了90nm,是可以生产28纳米制程芯片,正在大量递增地使用中。
在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平。
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