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28纳米光刻机属于DUV（Deep Ultraviolet）光刻机。DUV光刻机使用的是波长为193纳米的紫外线光源，可以实现最小线宽为约28纳米的芯片制造。与之相比，EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机使用的是波长为13.5纳米的极紫外线光源，可以实现更小的线宽，但目前EUV技术尚未完全成熟，商业应用还面临一些技术和经济上的挑战。因此，28纳米光刻机主要采用的光刻技术是DUV。
