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湖南首条光刻机是2019年投入使用的一台EUV光刻机，其最小曝光尺寸为7纳米。光刻机是半导体制造中关键的设备，用于将芯片上的电路图案投射到硅片上。EUV光刻技术是目前最先进的光刻技术，能够实现更小的曝光尺寸，提高芯片的集成度和性能。湖南首条光刻机的投入使用标志着中国在半导体制造领域取得了重要突破，对于推动中国半导体产业的发展具有重要意义。
