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4nm工艺是怎样实现的分析如下。
实际上，4nm工艺是台积电5nm工艺的第三个增强版本，4nm工艺相较于第一代N5工艺，晶体管密度增加了6%，效能上提升了11%，比上一代N4工艺效能提升了6%。此外，N4P工艺进一步降低了芯片的功耗，相较N5工艺降低了22%。在4nm工艺上，台积电进一步减少了光罩层数，进而降低了芯片制造的复杂度，并改善客户产品的生命周期。
