扫码或点击进入无线充模块店铺
光刻机极限大约1nm。
光刻机目前最高工艺制程可量产为4nm，作为全球两大代工巨头台积电和三星的技术上均可以达到3nm，工厂也在筹备中。目前已经接近极限，因为nm这个单位的长度大约就是4个硅原子的长度，而作为更小制程技术的GAA架构新硅晶体管的结构是立体的，这就决定了该技术的极限不可能小于1nm。
光刻机的加工极限是1nm。现在台积电可以批量生产5nm的芯片。其它的还在研究和试产阶段。
