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28nm浸液式光刻机实际是193nm光源的DUV光刻机，以水为界质缩小光源波长。
这里的“28nm光刻机”的叫法不是正确的叫法，而是193纳米ArF浸润式光刻机，其指的只是能够被用来制造出28纳米芯片的光刻机，而且爆料称该光刻机能够制造出7纳米的芯片。但又因为美国的半导体产业的制裁，该光刻机在批量生产的过程中遭到了延迟。ArFi就是浸润式ArF，也被称为DUV。这次大家寄予厚望的就是ArFi，国际上一般用于28nm及以上制程，所以这可能是其被称为“28nm光刻机”的原因。但ArFi上FinFET工艺可以做到14nm，再上多重曝光可以做到近似于7nm。
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