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28纳米芯片是由先进的光刻机生产的，其中最常用的是多重电子束光刻机（MEB）和极紫外光刻机（EUV）。MEB利用多个电子束同时进行曝光，可以实现高分辨率和高精度的芯片制造。而EUV则利用极紫外光源进行曝光，具有更高的分辨率和更小的特征尺寸。这些光刻机在制造28纳米芯片时，能够实现精确的图案转移和高度集成的电路结构，从而满足现代电子产品对性能和功耗的要求。
