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生产光芯片使用的主要材料包括以下几种：
半导体材料：光芯片主要由半导体材料构成，最常见的是硅（Si）。硅是一种常用的半导体材料，具有良好的电学特性和可制备性。除了硅，还有一些 III-V族化合物（如砷化镓、磷化铟等）和 II-VI族化合物（如硫化锌、硫化镉等）也被用于特定的光芯片应用。
溅射材料：利用物理气相沉积技术，通过将金属或合金靶材溅射到基板上，制备光芯片中的金属电极和导体。常用的溅射材料包括铝（Al）、铜（Cu）、银（Ag）和钼（Mo）等。
光波导材料：光波导层是光芯片中用于引导和传输光信号的关键部分。常用的光波导材料包括聚合物光波导材料、氮化硅（SiNx）和氧化铌（Nb2O5）等无机材料。
衬底材料：作为光芯片的基底，用于支撑和承载光电器件的层次结构。常见的衬底材料包括硅（Si）和蓝宝石（Al2O3）等。
除了上述材料，光芯片的制造还涉及其他附属材料和工艺，如光刻胶、金属电镀液、二氧化硅（SiO2）层等。这些材料和工艺的选择会根据具体的光芯片设计和应用需求而有所差异。
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