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最高13.5纳米。
西方光刻机目前最顶级是13.5纳米，也就是euv极紫外光光源波长的光刻机，这也是第一代euv光刻机，所以直接就是按光源波长来计算纳米数值。13.5的纳米可以制作22纳米以下制程的芯片，目前量产芯片最高为4纳米，可制造最高制程为3纳米。
