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国内进口的光刻机最高可达到几十纳米级别。光刻技术是半导体制造中至关重要的工艺，用于制造微电子器件。目前，国内进口的光刻机已经能够实现亚微米级别的精度，最高可达到几十纳米。这种高精度的光刻机在集成电路制造、光学器件制造等领域具有广泛的应用前景，对于推动我国高科技产业发展具有重要意义。
