扫码或点击进入无线充模块店铺
可以用euv光刻机，也可以用duv光刻机。
14纳米量产可以使用两种光刻机，一种是高端euv光刻机，一种是中端duv光刻机。euv光刻机是用于制造22纳米以下制程的，毫无疑问可以制造14纳米芯片。而duv光刻机可以在使用多次曝光等技术条件下最高达到7纳米制程，这个对技术要求非常高，目前全球也只有少数几家代工厂可以做到。
