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在半导体制程技术方面，关于3nm制程的光刻机信息目前尚不明确。然而，荷兰公司ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography）是全球最大的光刻机制造商之一，其EUV（极紫外）光刻机已经成为先进制程的关键设备。
在3nm制程方面，ASML可能在继续研发和改进其EUV光刻机。由于半导体制程技术不断发展和变化，各个公司之间的竞争激烈，未来的光刻机技术和设备可能会出现重大突破。为了获得关于3nm制程光刻机的最新信息，请关注ASML公司的官方声明和相关行业新闻。
三纳米芯片是用EUV光刻机通过多重曝光制造的。是荷兰阿斯麦公司研制的，美国，德国和日本等十几个国家提供零部件，阿斯麦负责整合组装。
需要使用极紫外光刻机（EUV）
即使有了EUV光刻机，生产3nm芯片也需要掌握很多其他的关键技术，比如材料、设计、封装等。这些技术都需要长期的积累和创新，不能一蹴而就。
生产3nm芯片需要使用极紫外光刻机（EUV），这是一种非常昂贵和复杂的设备，目前全球只有荷兰阿斯麦公司能够生产。由于美国的制裁和限制，中国无法从阿斯麦购买EUV光刻机，也无法自主研发。没有EUV光刻机，就无法进行3nm芯片的制造。
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