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光刻机波长极限是3纳米
目前高端光刻机波长是13.5纳米的极紫外光，比紫外线更短的光叫做伦琴射线，也叫X射线（0.001-0.1纳米波长）。但目前的技术还没有办法把X射线应用到光刻系统中。并且由于存在量子隧穿效应，3nm是个极限。小于3nm的工艺，都将面临量子隧穿效应带来的更大挑战，芯片能否稳定工作都将是问题。所以3纳米的光源波长应该就是光刻机波长极限。
