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7纳米光刻机可以生产5纳米芯片。
目前高端光刻机能制作7纳米工艺制程芯片的只有荷兰阿斯麦尔一家能生产，既EUV光刻机。EUV光刻机目前最小制程已经可以达到3纳米，台积电和三星都有技术并像台积电3纳米芯片已经接了英特尔的订单，目前正在提高良品率。作为上一代的193纳米光源的DUV光刻机可以通过技术手段，比如重复曝光法，能加工到等同于10纳米精度。那么13.5纳米光源的EUV光刻机也能提高工艺制程的方法加工7纳米、5纳米、3纳米甚至更精密的芯片。
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