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可以用多次曝光技术刻14纳米芯片
28纳米光刻机可以通过多次曝光技术刻制14纳米芯片。光刻制程本身就是一种多重配套制造流程，包括多重黄光和光胶，脱离以及再生过程等等，需要芯片设计软件搭配。如果芯片设计上以28纳米光刻设备配合适当的14纳米缩影光罩和胶片缩影，用多次曝光等技术，代用实验制程但非14纳米量产制程，可以在部分芯片的电路位置做出14纳米的线路，但不能量产和非全面的14纳米制程。
