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1、7nm工艺通常需要使用13.5nm的极紫外光刻机（EUVL）进行制程。
2、极紫外光刻机是目前用于制造7nm及以下工艺的最新一代光刻技术，可以实现更高的分辨率和更精确的图案复制。
7纳米工艺需要13.5纳米的光刻机。
目前所知的，生产7纳米及以下制程芯片，全部都需要依赖光源波长为13.5纳米的EUV光刻机。
