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可以制作的芯片精细程度不同。激光光源决定了波长，波长会影响线宽，因此现在7nm的制作基本依赖于多重曝光，但是90nm基本上不需要，可以采用更长波长的光源多重曝光，也可以用EUV再进行浸润式光刻。
因为制程差距太大，所以在精度上的需求也相差很多，设备的制作难度可能是指数级的差距。
