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目前国内半导体产业还没有完全实现22nm级别的芯片制造，因此国产光刻机是否能够真正突破22nm级别的制造仍存在争议。然而，国内半导体设备制造商正在积极开展相关技术研究和产品开发，例如中微半导体、北方华创等公司都在光刻机领域进行了一系列技术创新和突破，不断提升其设备的分辨率、加工精度和生产效率。随着国内半导体产业的不断发展和技术进步，相信国产光刻机也会在未来实现22nm级别的芯片制造，并在全球半导体设备市场中发挥重要作用。
没有突破到22纳米。
国产光刻机目前能量产的制程是90nm，这是上海微电子制造的设备，该公司也是全球四家光刻机制造商之一。上海微电子公司去年28nm光刻机已经通过技术检测和验证，预计今年可以提供给采购方。而22nm这种制程的光刻机应该没有被列入该公司计划。
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