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1980di和1950di光刻机的主要区别在于它们的分辨率和适用范围。
1980di光刻机可以实现的分辨率大于等于38nm，数值孔径为1.35NA，每小时可以生产275片晶圆。这种光刻机主要用于制造14nm及更高级别的芯片。
而1950di光刻机的分辨率则较低，小于38nm，数值孔径为0.85NA，每小时可以生产170片晶圆。这种光刻机主要用于制造90nm及更高级别的芯片。
综上所述，1980di和1950di光刻机的区别主要体现在分辨率和适用范围上。前者更适合制造较高级别的芯片，而后者则更适合制造较低级别的芯片。
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