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用投影光刻机！
具体而言，根据用途不同，可以将光刻机分为三类：一是主要用于生产芯片的光刻机；二是用于封装的光刻机；三是用于LED制造领域的投影光刻机。
目前尺寸在14纳米以下的LED光刻机基本上被荷兰的阿斯麦尔垄断。14纳米以上的在中国日本南韩欧洲和美国均有生产。
按照用途可以将光刻机分为三种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。
投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光方法。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上。
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