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想要制造顶级的芯片，就必须用到最顶级的光刻机，而如今最顶级的极紫外光刻技术，也只是掌握在少数顶尖科技企业的手中，就比如说荷兰的阿斯麦，中科院所研制出来的五纳米高精度光刻方法，最大的用途是做光掩模，而真正的EUV光刻机，并不仅仅只是这项技术。在如今中国的很多中低端光刻机其实运用到的也是外来的技术，很多装备材料零件都是采购国外的，这样的技术，即使中国还没有攻克难题。
